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J-GLOBAL ID：200903027306393163

偏光解析法および測定装置

Inventor： 宮嶋 俊平
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998022623
Publication number (International publication number)：1999211655
Application date： Jan. 20, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 偏光解析法による薄膜の膜厚と屈折率の独立決定の曖昧さを克服し、高い信頼性で膜構造を解析することを可能にする。【解決手段】 基板上に薄膜を堆積させた膜構造の膜厚および屈折率あるいは組成を解析する偏光解析法において、液体に測定試料全体を浸し、この液体の屈折率を連続的に変化させながら偏光解析測定を行い、基板と入射角度によって決まるブルースターエネルギー付近における液体中での偏光解析測定データのうちの偏光光波の位相ずれの差異(Δ)の不連続的な変化を検知することによって薄膜の屈折率を決定する。

Claim (excerpt)：

基板上に薄膜を堆積させた膜構造の膜厚および屈折率あるいは組成を解析する偏光解析法において、液体に測定試料全体を浸してこの液体の屈折率を連続的に変化させながら偏光解析測定を行い、基板と入射角度によって決まるブルースターエネルギー付近における液体中での偏光解析測定データのうちの偏光光波の位相ずれの差異の不連続的な変化が起こる時点を検知し、その時点での液体の屈折率を測定することによって薄膜の屈折率を決定することを特徴とする偏光解析法。

IPC (3)：

G01N 21/21 ,  G01B 11/06 ,  G01N 21/41

FI (3)：

G01N 21/21 Z ,  G01B 11/06 Z ,  G01N 21/41 Z