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J-GLOBAL ID:200903027385750782
フォトソルダーレジスト組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993296333
Publication number (International publication number):1995146555
Application date: Nov. 26, 1993
Publication date: Jun. 06, 1995
Summary:
【要約】【目的】本発明は、プリント配線板製造工程等に於て好適に用いられる、アルカリ現像型フォトソルダーレジストの提供を目的とする。【構成】不飽和多塩基酸またはその無水物の重合体もしくは他のエチレン不飽和化合物との共重合体のラジカル重合性一価アルコールおよび非ラジカル重合性多価アルコールによるハーフエステル化物を含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。【効果】本発明により、耐薬品性、耐溶剤性、耐水性、耐湿性、耐アルカリ性、耐水溶性フラックス性等において優れた特性を有するフォトソルダーレジスト組成物が得られた。
Claim (excerpt):
不飽和多塩基酸またはその無水物の重合体もしくは他のエチレン不飽和化合物との共重合体のラジカル重合性一価アルコールおよび非ラジカル重合性多価アルコールによるハーフエステル化物を含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。
IPC (6):
G03F 7/038 505
, C08F 2/48 MDH
, G03F 7/004 503
, G03F 7/027
, H05K 3/06
, H05K 3/28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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