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J-GLOBAL ID：200903027386259616

基板から有機物質を灰化する方法

Inventor：
レヴェンソン,エリック オー

About レヴェンソン,エリック オー

, 
ウォレウ,オーマッド

About ウォレウ,オーマッド


Applicant, Patent owner：
アノン インコーポレイテッド

About アノン インコーポレイテッド


Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000529750
Publication number (International publication number)：2002502125
Application date： Jan. 26, 1999
Publication date： Jan. 22, 2002
Summary：
【要約】以下のグループすなわちa)三酸化硫黄のみ、2)三酸化硫黄および1種類の補助ガス、および3)三酸化硫黄および少なくとも2種類の補助ガス、のうちのいずれかのガスまたはガス混合物を含むプラズマを供給することによって、基板から有機膜を灰化する。補助ガスとしては、水蒸気、オゾン、水素、窒素、窒素酸化物、またはテトラフルオロメタン、塩素、三ふっ化窒素、ヘキサフルオロエタンまたはメチルトリフルオライドなどのハロゲン化物のいずれかを使用することができる。
Claim (excerpt)：
基板表面から有機物質を除去する方法であって、 a)三酸化硫黄と、水蒸気、オゾン、水素、窒素、窒素酸化物およびハロゲン化物からなる群より選択される少なくとも1種類の5〜99容量パーセントの補助ガスとを含む反応ガスからプラズマを生成する工程、および b)該有機物質を含有する該基板表面に該プラズマを、該有機物質を灰化するのに十分であるが該基板表面を損傷させるにはいたらないだけの時間、衝突させる工程を含むことを特徴とする方法。
IPC (2)：
H01L 21/3065 ,  G03F 7/42
FI (2)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/302 H
F-Term (24)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096LA07 ,  2H096LA08 ,  5F004AA05 ,  5F004AA06 ,  5F004AA16 ,  5F004BA01 ,  5F004BA03 ,  5F004BD01 ,  5F004CA04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA04 ,  5F004DA17 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA27 ,  5F004DB26 ,  5F004DB27
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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