熱可逆ハイドロゲル形成性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (5)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 吉井一男 , 西山雅也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003293528
Publication number (International publication number)：2005060570
Application date： Aug. 14, 2003
Publication date： Mar. 10, 2005
Summary：

【課題】ゲル状態-非ゲル状態間の設計の自由度を増大させることが可能な熱可逆ハイドロゲル形成性組成物を提供する。【解決手段】その水溶液が熱可逆的ゾル-ゲル転移温度(Ta°C)を有し、該ゾル-ゲル転移温度より低温側でゾル状態、高温側でゲル状態となるハイドロゲル形成性の高分子(A)と、その水溶液が曇点(Tb°C)を有する高分子(B)を少なくとも含む熱可逆ハイドロゲル形成性組成物。該熱可逆ハイドロゲル形成性組成物の水溶液または分散液は、TaおよびTbのうち高い方の温度(TH)より高い温度で実質的に水不溶性のハイドロゲル状態となり、且つ、TaおよびTbのうち低い方の温度(TL)より低い温度で可逆的に水可溶性を示す。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

その水溶液が熱可逆的ゾル-ゲル転移温度(Ta°C)を有し、該ゾル-ゲル転移温度より低温側でゾル状態、高温側でゲル状態となるハイドロゲル形成性の高分子(A)と、その水溶液が曇点(Tb°C)を有する高分子(B)を少なくとも含む熱可逆ハイドロゲル形成性組成物であって; 該熱可逆ハイドロゲル形成性組成物の水溶液または分散液が、TaおよびTbのうち高い方の温度(TH)より高い温度で実質的に水不溶性のハイドロゲル状態となり、且つ、TaおよびTbのうち低い方の温度(TL)より低い温度で可逆的に水可溶性を示す熱可逆ハイドロゲル形成性組成物。

IPC (4)：

C08L101/14 , A61L15/44 , A61L26/00 , C08G81/00

FI (4)：

C08L101/14 , C08G81/00 , A61L15/03 , A61L25/00

F-Term (35)：

4C081AA02 , 4C081AA12 , 4C081AC04 , 4C081BB07 , 4C081CE02 , 4C081DA12 , 4J002AB03W , 4J002AB05W , 4J002BC10W , 4J002BE02W , 4J002BE02X , 4J002BE04W , 4J002BE04X , 4J002BG01W , 4J002BG07W , 4J002BG13W , 4J002BG13X , 4J002BJ00W , 4J002BQ00W , 4J002CH02W , 4J002CH02X , 4J031AA03 , 4J031AA15 , 4J031AA16 , 4J031AA20 , 4J031AA22 , 4J031AA25 , 4J031AA26 , 4J031AA53 , 4J031AC03 , 4J031AC07 , 4J031AC08 , 4J031AD01 , 4J031AF03 , 4J031AF09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

熱可逆ハイドロゲル形成性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-347922 Applicant：株式会社エムアンドエム研究所

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