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J-GLOBAL ID：200903027403872920

化学増幅型ポジレジスト組成物

Inventor： 山中 司 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995172414
Publication number (International publication number)：1997022115
Application date： Jul. 07, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、レジスト組成物の溶液保存経時によるレジスト性能の劣化及びロット間での性能バラツキを防止し、良好なレジストを形成できる化学増幅型ポジレジスト組成物を提供する【解決手段】本発明は、(A)酸分解性基を含有する化合物、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)有機塩基性化合物及び(D)溶剤を含有し、含水率が組成物中0.3wt%未満である化学増幅型ポジレジスト組成物であり、また、(A)の酸分解性基が第3級アルキルエステル基、又はアセタール基及びシリルエーテル基の中から選ばれる少なくとも1種の基である上記ポジレジスト組成物である。

Claim (excerpt)：

(A)酸分解性基を含有する化合物、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)有機塩基性化合物及び(D)溶剤を含有する化学増幅型ポジレジスト組成物において、該レジスト組成物の含水率が組成物中0.3wt%未満であることを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503

FI (2)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503