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J-GLOBAL ID：200903027409644610

ジルコン酸鉛膜の形成方法

Inventor： 梶芳 浩二 ,  浜地 幸生 ,  坂部 行雄
Applicant, Patent owner： 株式会社村田製作所
Agent (1)： 西澤 均
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991334104
Publication number (International publication number)：1993139749
Application date： Nov. 21, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 後処理工程を必要とすることなく、かつ、低温の温度条件下で、任意の形状の基材上に均一なジルコン酸鉛(PbZrO3)膜を形成する。【構成】 0.1mol/l 以上の鉛(Pb)イオンまたはサスペンジョンと、0.1mol/l 以上のジルコニウム(Zr)イオンまたはサスペンジョンとを含有し、かつ、pHが14以上のアルカリ性水溶液中に基材を浸漬し、200°C以上の温度で水熱処理を施すことにより、ジルコン酸鉛(PbZrO3)膜を前記基材の表面に形成する。

Claim (excerpt)：

0.1mol/l 以上の鉛(Pb)イオンまたはサスペンジョンと、0.1mol/l 以上のジルコニウム(Zr)イオンまたはサスペンジョンとを含有し、かつ、pHが14以上のアルカリ性水溶液中に基材を浸漬し、200°C以上の温度で水熱処理を施すことにより、ジルコン酸鉛(PbZrO3)膜を前記基材の表面に形成することを特徴とするジルコン酸鉛膜の形成方法。

IPC (2)：

C01G 25/00 ,  H01B 3/00