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J-GLOBAL ID：200903027422289870

感光性組成物およびその製造方法

Inventor： 内藤 卓哉 ,  木原 尚子 ,  斎藤 聡 ,  中瀬 真
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995245210
Publication number (International publication number)：1997068795
Application date： Aug. 31, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 レジストパターンをエッチングマスクとして用い、酸性溶液でエッチングする際に、レジストパターンと遮光膜等のエッチング対象部材との間のエッチング液の浸入を防止し、超微細パターンの形成の精度を向上させる感光性組成物を提供する。【解決手段】 酸によって分解または架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物である。分子量の1000以下の低分子有機酸成分の含有量が100ppm以下であることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

酸によって分解または架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有し、分子量1000以下の低分子有機酸成分の含有量が100ppm以下であることを特徴とする感光性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R