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J-GLOBAL ID:200903027437994391

半導体の光触媒作用を利用した酸化・還元方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992277937
Publication number (International publication number):1994134476
Application date: Sep. 22, 1992
Publication date: May. 17, 1994
Summary:
【要約】【構成】 反応相中の二酸化チタンなどの半導体に光を照射して触媒作用を発揮させ、これを利用して反応相中で酸化・還元反応を行なう方法において、前記反応相中にポリメチルメタクリレ-トなどの光ファイバ-を配し、この光ファイバ-を前記光の供給源として使用する。【効果】 反応相中にある半導体へ光エネルギ-を有効に与えることができ、半導体の光触媒作用を有効に発揮でき、それゆえ、酸化・還元反応を効率的になすことができる。また、種々の場所での反応に用いることができる。
Claim (excerpt):
反応相中の半導体に光を照射して触媒作用を発揮させ、これを利用して反応相中で酸化・還元反応を行なう方法において、前記反応相中に光ファイバ-を配し、この光ファイバ-を前記光の供給源として使用することを特徴とする半導体の光触媒作用を利用した酸化・還元方法。
IPC (4):
C02F 1/72 101 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-141294

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