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J-GLOBAL ID：200903027444116391

酸に対して不安定な保護基を有するオリゴマー化合物、およびこの化合物を用いて製造したポジ型放射線感応性混合物

Inventor： イバン、カブレラ ,  ゲオルク、パウロウスキー
Applicant, Patent owner： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992221915
Publication number (International publication number)：1993262874
Application date： Jul. 29, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 (式中、Xはフェニル、ナフチルまたはナフチル基であり、それぞれ少なくとも一つのtert.-ブトキシカルボニルオキシ基により置換され、必要であれば、さらに1個以上の他の置換基を有し、R1 は水素原子、アルキル基、アリール基または基X、R2 は3個までのメチレン基が、-O-、-S-、-NR4 -、-CO-、の様な、少なくと1個の異原子を有する橋かけ構成員により置き換えられているアルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン基など、nは2〜50、好ましくは5〜20の整数である。)の化合物。【効果】 電子線に対する感度が高く、開裂生成物は水性アルカリ現像剤に良く溶解し、露光区域における現像を促進し、熱処理の際にも混合物から蒸発しない低揮発性を有す。

Claim (excerpt)：

式I(式中、Xはフェニル、[1]ナフチルまたは[2]ナフチル基であり、それぞれ少なくとも一つのtert.-ブトキシカルボニルオキシ基により置換され、必要であれば、さらに1個以上の他の置換基を有し、R1 は水素原子、(C1 〜C6 )アルキル基、(C6 〜C10)アリール基または基Xの一つであり、R2 は、必要であれば3個までのメチレン基が、-O-、-S-、-NR3 -、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-SO2 -、-SO2 -O-または-SO2-NH-の様な、少なくと1個の異原子を有する橋かけ構成員により置き換えられている(C4 〜C12)アルキレン、(C4 〜C12)アルケニレンまたは(C4〜C12)アルキニレン基、または必要であれば脂肪族部分の3個までのメチレン基が上記の種類の橋かけ構成員により置き換えられており、芳香族部分でフッ素、塩素または臭素原子または(C1 〜C4 )アルキル、(C1 〜C4 )アルコキシ、ニトロ、シアノまたはtert.-ブトキシカルボニルオキシ基により置換されていてもよい(C4 〜C12)シクロアルキレン、(C4 〜C12)シクロアルケニレンまたは(C8 〜C16)アリーレンビスアルキル基であり、R3 はアシル基、特に(C1 〜C6 )アルカノイル基であり、nは2〜50、好ましくは5〜20の整数である。)の化合物。

IPC (4)：

C08G 65/34 NQS ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭53-133429
  
• 特開昭56-099336
  
• 特開昭59-045439