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J-GLOBAL ID：200903027462864010

基板の検査方法及び検査装置

Inventor：
佐藤 紀勝

About 佐藤 紀勝


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999350143
Publication number (International publication number)：2001168010
Application date： Dec. 09, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：
【要約】【課題】 所定の処理後のウェハを検査する際に必要となるスペースを従来よりも減少させる。【解決手段】 固定されたCCDカメラ70の下方に,回転自在であると共にX,Y方向に移動自在であるウェハWの載置台を有する検査装置を用いる。先ず,所定の位置に載置されたウェハWをX軸正方向に移動させながら,ウェハW表面を撮影し,ウェハWの直径分だけ移動させたところで停止する。そして,Y方向に検査エリアS分だけ移動して,停止し,今度はX軸負方向に移動して撮影する。以上の工程を繰り返して,ウェハW上面の半分を撮影したところで,ウェハWを180度回転させて,撮影済みのエリアと未撮影のエリアを入れ替える。そして,前行程の経路を逆にたどり,同様にして,ウェハWの全上面を検査する。
Claim (excerpt)：
基板と検査部とが相対的に移動し,前記基板表面を走査する基板の検査方法であって,前記基板表面の少なくとも半分の領域を前記検査部により走査する工程と,前記基板を前記基板の中心軸周りに180度回転させる工程と,前記工程で走査されていない前記基板の残りの領域を前記検査部により走査する工程とを有することを特徴とする,基板の検査方法。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/956
FI (3)：
G01B 11/00 H ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/30 570
F-Term (28)：
2F065AA49 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD02 ,  2F065FF04 ,  2F065GG08 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065MM28 ,  2F065NN02 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065TT01 ,  2F065TT02 ,  2G051AA51 ,  2G051AB20 ,  2G051AC01 ,  2G051BC02 ,  2G051CA04 ,  2G051CD03 ,  2G051DA01 ,  2G051DA08 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭61-008923
  • 異物検出用の最適閾値決定方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-228833   Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
  • 特開昭62-102522
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