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J-GLOBAL ID:200903027505885768

排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997053707
Publication number (International publication number):1998180096
Application date: Mar. 07, 1997
Publication date: Jul. 07, 1998
Summary:
【要約】【課題】 長期にわたって触媒性能が維持できる触媒、また、パティキュレート、HC、CO、NOxの浄化性能を長期にわたって維持できる触媒を提供すること。【解決手段】 触媒支持体上に、触媒成分を含有する耐熱性無機酸化物層を有する排ガス浄化用触媒において、該耐熱性無機酸化物層は、珪素含有化合物とチタニウム含有化合物とが分子状態で酸化物とされた3〜35重量%のシリカが微細にアナターゼ型チタニア粒子に分散保持されたシリカドープアナターゼ型チタニアを含有していることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
Claim (excerpt):
触媒支持体上に触媒成分を含有する耐熱性無機酸化物層を有する排ガス浄化用触媒において、該耐熱性無機酸化物層は、珪素含有化合物とチタニウム含有化合物とが分子状態で混合された状態で酸化物とされた3〜35重量%のシリカが微細にアナターゼ型チタニア粒子に分散保持されたシリカドープアナターゼ型チタニアを含有していることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (4):
B01J 23/40 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/63
FI (4):
B01J 23/40 ZAB A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 Z ,  B01J 23/56 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭59-035025
  • 特開平1-045725
  • 特開昭52-122293
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