Pat
J-GLOBAL ID:200903027509003786

円周表面の熱処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992095615
Publication number (International publication number):1993287362
Application date: Apr. 15, 1992
Publication date: Nov. 02, 1993
Summary:
【要約】【目的】 レーザ光を熱源とした円周表面の熱処理において、円周上の品質が均一となるような熱処理方法を提供することにある。【構成】 熱源となるレーザ光2の集光手段に円錐レンズ5を用いることにより、環状のレーザ光8を形成させる。レーザ光が所定の環状となる位置に被加工物9を配置した後、環状のレーザ光8を所定時間照射することによって、熱処理を完了する。
Claim (excerpt):
レーザ発振器からのレーザ光を被加工物の円周表面に集光照射する円周表面の熱処理方法において、前記被加工物の円周表面に一致する環状のレーザ光を照射することを特徴とする円周表面の熱処理方法。
IPC (4):
C21D 1/09 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  C21D 1/34

Return to Previous Page