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J-GLOBAL ID：200903027511295395

真空排気システム

Inventor： 野路 伸治 ,  新村 恵弘 ,  小神野 宏明 ,  服部 博
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996151590
Publication number (International publication number)：1997317645
Application date： May. 23, 1996
Publication date： Dec. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】 真空ポンプの長寿命化、排ガス処理装置の省容量化によって、運転の信頼性の向上、設備や運転コストの低減を図ることができる真空排気システムを提供する。【解決手段】 プロセスチャンバ10とチャンバを排気するための真空ポンプ12とを連通する排気配管14に、プロセスチャンバ10からの排ガスの所定の活性成分と反応してこれを不活性化する犠牲材料26を配した。

Claim (excerpt)：

プロセスチャンバと該チャンバを排気するための真空ポンプとを連通する排気配管に、該プロセスチャンバからの排ガスの所定の活性成分と反応してこれを不活性化する犠牲材料を配したことを特徴とする真空排気システム。

IPC (3)：

F04B 39/16 ,  F04B 37/16 ,  H01L 21/02

FI (3)：

F04B 39/16 ,  F04B 37/16 ,  H01L 21/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• フッ化窒素排ガスの除害装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-063939   Applicant：岩谷産業株式会社
• 特開昭53-137085
  
• 液体原料用CVD装置、および液体原料を用いたCVDプロセスと、その液体原料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-057359   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平4-370380
  
• 真空装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-279374   Applicant：ソニー株式会社
• 濾過装置及びそれによる真空ポンプ系保護方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-011899   Applicant：関東電化工業株式会社
• ガス制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-182148   Applicant：株式会社日立製作所