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J-GLOBAL ID:200903027519021278

レーザ加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992052063
Publication number (International publication number):1993253687
Application date: Mar. 11, 1992
Publication date: Oct. 05, 1993
Summary:
【要約】【構成】 レーザ光源から出射されたレーザビームを伝送する光ファイバの出射口と、被加工物を搭載して光ファイバから出射するレーザビームに対せて直角な平面内で位置決め動作を行うXYステージとの間に組合わせレンズまたは多面体ミラーを設け、組合わせレンズを同心円状に配置されて同一の焦点距離と同一の光軸とを有し光軸から離れるに従って前記被加工物に近い位置に配置された複数のレンズによって構成するか、または同心円状に配置されて同一の主点と同一の光軸とを有し光軸から離れるに従って焦点距離が長くなる複数のレンズによって構成し、多面体ミラーを凹面に多数の平面鏡を密着して並べた凹面状の多面体ミラーとする。【効果】 所定の照射面積内で均一なビーム強度のレーザビームを被加工物に対して照射することができ、従って加工品質を向上させ、製品の歩留りを改善できる。
Claim (excerpt):
レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザビームを伝送する光ファイバと、前記光ファイバによって伝送されコリメートレンズを通過した前記レーザビームを被加工物に対して集光する組合わせレンズと、前記被加工物を搭載して前記被加工物の指定された箇所を集光された前記レーザビームの位置に移動させるXYステージとを備え、前記組合わせレンズが、同心円状に配置されて同一の焦点距離と同一の光軸とを有し、前記光軸から離れるに従って前記被加工物に近い位置に配置された複数のレンズによって構成されていることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (5):
B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G02B 3/00 ,  G02B 27/00 ,  H05K 3/34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-157187

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