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J-GLOBAL ID：200903027531544448

膜形成方法

Inventor： 鈴木 泰雄 ,  岡本 康治
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991336256
Publication number (International publication number)：1993148649
Application date： Nov. 25, 1991
Publication date： Jun. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 母材の表面に厚膜を形成する場合に、当該厚膜の母材に対する密着強度を向上させることができる膜形成方法を提供する。【構成】 母材の表面に厚膜4を形成する際に、当該厚膜4の形成に先立って、母材2に、当該厚膜4を構成する金属のイオン6を注入する。

Claim (excerpt)：

母材の表面に厚膜を形成する際に、当該厚膜の形成に先立って、母材に、当該厚膜を構成する金属のイオンを注入することを特徴とする膜形成方法。

IPC (3)：

C23C 14/48 ,  C23C 14/02 ,  C23C 28/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平2-004960
  
• 特開平3-017267
  
• 特開平3-097848
  
• 特開平3-124032
  
• 特開平1-162757