Pat
J-GLOBAL ID：200903027548915148

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
藤森 亨

About 藤森 亨


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001080895
Publication number (International publication number)：2002278070
Application date： Mar. 21, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 現像欠陥性能及びラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(C)有機塩基性化合物(D)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物において、(B)の樹脂がヒドロキシスチレンとt-ブチルアクリレート共重合体(通常ESCAPという)と、ESCAPにスチレンユニットを導入した共重合体を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(C)有機塩基性化合物(D)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物において、(B)の樹脂が下記一般式(I)、(II)で表される構造単位を有する樹脂(A1)と、下記一般式(I)、(II)及び(III)で表される構造単位を有する樹脂(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)〜(III) 中、R1 及びR2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はメチル基、R3は置換されてもよい3級アルキル基を表す。R4は水素原子又はメチル基である。R5は、水素原子、炭素数1〜4の直鎖、分岐アルキル基、メトキシ基、又はアセトキシ基を表す。
IPC (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/541 ,  C08L 25/18 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  C08K 5/54 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (36)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J002BC072 ,  4J002BC121 ,  4J002BC122 ,  4J002CP033 ,  4J002EB106 ,  4J002ER027 ,  4J002EU027 ,  4J002EU047 ,  4J002EU117 ,  4J002EU127 ,  4J002EU137 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU237 ,  4J002EV046 ,  4J002EV216 ,  4J002EV226 ,  4J002FD313 ,  4J002GQ05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM