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J-GLOBAL ID：200903027552094493

投影露光装置

Inventor： 加藤 欣也 ,  牛田 一雄 ,  浪川 敏之 ,  松本 宏一 ,  諏訪 恭一 ,  大野 康一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996132411
Publication number (International publication number)：1996288213
Application date： Dec. 21, 1988
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【課題】投影光学系の有する解像力をさ程低下させることなく、種々の微細パターンに対しても極めて安定して転写を行うこと。【解決手段】所定のパターンを有するレチクル(3)を照明するための照明光学系(1)と、レチクル上のパターンをウエハ(6)面上に投影するための所定の開口数を持つ投影光学系(4)とを有する投影露光装置であって、レチクルとウエハとの間の光路中には、光軸を横切る方向に移動可能に設けられた2枚の楔プリズムが配置されるものである。

Claim (excerpt)：

所定のパターンを有するレチクルを照明するための照明光学系と、該レチクル上のパターンをウエハ面上に投影するための所定の開口数を持つ投影光学系とを有する投影露光装置において、前記レチクルと前記ウエハとの間の光路中には、光軸を横切る方向に移動可能に設けられた2枚の楔プリズムが配置されることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521