Pat

J-GLOBAL ID：200903027554175393

非イオン性ポリグリコールを含有するフォトレジスト

Inventor： ジェームズ・トーマス・ファヘイ ,  マハムード・ムスタファー・ホジャステ ,  ロナルド・ウェイン・ナネス ,  スタンリー・ユージン・ペレオール ,  ギャリー・トーマス・スピニッロ ,  ケヴィン・マイケル・ウェルシュ ,  ロバート・ラヴィン・ウッド
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993063937
Publication number (International publication number)：1994043631
Application date： Mar. 23, 1993
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【構成】 本発明は、水酸基を末端基とする非イオン性ポリグリコール型界面活性剤を含有する、化学的に強化されたフォトレジスト組成物を提供する。【効果】 本発明のポリグリコールを含有する組成物は、通常大型のシリコン・ウェーハの上面の像の変形を引き起こす、有機および無機の塩基等の環境毒の吸収を遅くすることにより、レジストのコントラストを改善する。さらに、ポリグリコールは線量寛容度を拡大し、これらのレジストの焦点許容範囲を、サブミクロンの像を解像できるように改善する。

Claim (excerpt)：

アルカリに可溶性の水酸基置換芳香族重合体組成物と、イミドまたはオキシムを有するスルホン酸エステルと、水酸基を末端基とする非イオン性ポリグリコール型界面活性添加剤とを含む、化学的に強化されたフォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開昭60-260947
  
• 特開昭63-163452
  
• 特開平3-152543
  
• 特開平3-206458
  
• 特開昭62-251740
  
• 特開昭64-032256
  
• 特開昭57-052053
  
• 特開平1-129250