Pat
J-GLOBAL ID:200903027569464642

リソグラフィー用ペリクル

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992245827
Publication number (International publication number):1994067409
Application date: Aug. 21, 1992
Publication date: Mar. 11, 1994
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に 500nm以下の露光方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
フッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2):
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-104155
  • 特開平3-259258

Return to Previous Page