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J-GLOBAL ID：200903027609039516

投影露光装置

Inventor： 白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992128368
Publication number (International publication number)：1993326365
Application date： May. 21, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 照明光学系を大型化することなく、従来のレチクルをそのまま使用して高解像度、大焦点深度の投影露光を実現する。【構成】 レチクルRの入射側にΔtだけ離して所定ピッチの回折格子パターンRGを設け、パターンRGから発生する±1次回折光L1 、L2 をレチクルRに対して所定角度ψだけ傾けて対称的に入射する。さらに、露光動作中に回折格子パターンRGを、投影光学系の光軸方向等に移動、または振動させる、もしくは所定方向(光軸以外)を回転軸として微小回転、または微小振動させる駆動機構18、または19を設けた。【効果】 回折格子パターンの欠陥等による悪影響を低減できるとともに、レチクル面上での照度均一性も向上させることが可能となる。

Claim (excerpt)：

光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形するとともに、該均一な照明光をマスクに照射するための照明光学系と、前記マスクに形成された微細パターンの像を感光基板に結像投影するための投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記微細パターンの光源側に、もしくは前記照明光学系中の前記微細パターンの共役面から所定間隔だけ離して配置され、かつ前記照明光が入射したとき、該入射光の少なくとも一部を前記微細パターンに対して所定角度だけ偏向させる偏向部材と;前記微細パターンを前記感光基板に露光する間に、少なくとも一方向に前記偏向部材を移動、または振動させる、もしくは所定方向を回転軸として微小回転、または微小振動させる駆動機構とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/18 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 S