真空処理装置集合体のクリーニング方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅井章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993256506
Publication number (International publication number)：1995094488
Application date： Sep. 20, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】容器内壁等に付着したクリーニングガスを効果的に排除することができる真空処理装置集合体のクリーニング方法を提供する。【構成】被処理体Wを処理するための複数の真空処理室24と、この真空処理室に設けられた真空排気系43と、上記被処理体を搬入・搬出するための移載室4、8と、カセットを収容するカセット室10A、10Bを有する真空処理装置集合体のクリーニング方法において、クリーニング処理後のクリーニングガスを排除するために各室内を真空引きしつつ不活性ガスの供給と停止を繰り返して行う。これにより、不活性ガスの供給による衝撃により内壁等に付着しているクリーニングガスの離脱を促進させる。

Claim (excerpt)：

被処理体を処理するための複数の真空処理室と、前記各真空処理室に設けられた真空排気系と、前記真空処理室に対して前記被処理体を搬入・搬出するために必要とされる移載室と、複数枚の前記被処理体を収容可能なカセットを収容するカセット室とを少なくとも有し、前記各室間が開閉可能になされた真空処理装置集合体のクリーニング方法において、前記真空処理室、前記移載室及び前記カセット室内の一部または全部をClF系ガスを含むクリーニングガスでクリーニングすると同時に光エネルギにより前記クリーニングガスを活性化させるように構成したことを特徴とする真空処理装置集合体のクリーニング方法。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , C23C 14/00 , C23C 16/02 , H01L 21/203 , H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-254350
特開平2-185977
特開平3-116727

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