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J-GLOBAL ID：200903027638159784
露光用マスク及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997181281
Publication number (International publication number)：1999026355
Application date： Jul. 07, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 遮光膜のエッチングに起因する寸法変換差や、遮光膜の薄皮残り等が生じるのを防止することができ、露光精度の向上に寄与する。【解決手段】 フォトマスクの製造方法において、石英からなる透明基板11上にレジストパ12のターンを形成したのち、このレジストパターンをマスクに基板11を選択エッチングして溝部13を形成し、次いで溝部13を有する基板11の表面上にシリコンからなる遮光膜14を形成し、次いで遮光膜14及び基板11をCMP法で所定量エッチングすることにより、溝部13に遮光膜14を埋め込むと共に基板表面を平坦化し、しかるのち基板11の遮光膜形成面に透明膜を形成する。
Claim (excerpt)：
表面部に溝が形成された透明基板と、前記溝内に埋め込み形成された遮光膜とを具備してなり、前記基板表面が平坦化されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 1/14
H01L 21/30 502 P
, G03F 1/08 L
, G03F 1/08 A
, G03F 1/14 A
Cited by examiner (7)
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