高分子金属錯体及びガス吸着材としての利用並びにこれを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子 , 宇谷勝幸 , 藤井敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004039881
Publication number (International publication number)：2005232034
Application date： Feb. 17, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】ガス吸着材として利用が可能な新規な高分子金属錯体を提供し、さらに、これを用いたガス分離装置及びガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】 [NiY2L2]n(ただし、式中Yは対イオン、Lは有機配位子を示す。)の構造単位を有する高分子金属錯体である。前記YとしてはBF4-イオンが、前記有機配位子Lとしては1,4-ビス(4-ピリジル)ベンゼンが、それぞれ挙げられる。前記高分子金属錯体からなるガス吸着材は、ガス分離装置やガス貯蔵装置に適用されうる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)の単位構造を有する高分子金属錯体。

IPC (3)：

C07D213/53 , B01J20/26 , F17C11/00

FI (3)：

C07D213/53 , B01J20/26 A , F17C11/00 A

F-Term (27)：

3E072EA01 , 4C055AA01 , 4C055BA01 , 4C055CA01 , 4C055DA08 , 4C055DA25 , 4C055EA01 , 4C055GA02 , 4G066AA11A , 4G066AB09A , 4G066AB24B , 4G066AC11B , 4G066BA50 , 4G066CA23 , 4G066CA24 , 4G066CA27 , 4G066CA28 , 4G066CA29 , 4G066CA35 , 4G066CA37 , 4G066CA38 , 4G066CA51 , 4G066DA01 , 4H050AA01 , 4H050AB90 , 4H050WB14 , 4H050WB21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

新規有機金属錯体およびガス吸着材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-283047 Applicant：大阪瓦斯株式会社, 森和亮

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