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J-GLOBAL ID：200903027688248591

メタノールの低温分解による合成ガスの製造方法およびそれに用いる触媒

Inventor： 伊藤 建彦 ,  佐々木 基 ,  浜田 秀昭 ,  塩崎 竜二 ,  石井 智子 ,  熊谷 幹郎
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  財団法人産業創造研究所
Agent (2)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長 (外1名) ,  池浦 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997363676
Publication number (International publication number)：1999171502
Application date： Dec. 16, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 メタノールの低温分解反応用触媒において、高効率で合成ガスを生成する触媒を提供する。【解決手段】 シリカゲル上に酸化ジルコニウムを高分散担持した後、更にパラジウムを3wt%以上の濃度で担持することを特徴とする合成ガスの製造用触媒。

Claim (excerpt)：

メタノールの分解反応による合成ガスの製造方法において、酸化ジルコニウムを高分散担持したシリカゲル上にパラジウムを3重量%以上の濃度で担持した触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

IPC (2)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/44

FI (2)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/44 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-264141