レーザービームを均質化する光ファイバー装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：筒井大和 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997508984
Publication number (International publication number)：2000502191
Application date： Aug. 06, 1996
Publication date： Feb. 22, 2000
Summary：

【要約】レーザービームを均質化する光学装置は、処理すべきレーザービームを、各々実質的に一様な横断面および実質的に均質なエネルギー分布をもつm×n個のレーザービームに分割する複数の隣接した前方レンズ(LFmn)と、前方レンズ(LFmn)の焦面に配置され、各々複数の前方レンズ(LFmn)のなかから選択された一つの前方レンズ(LFmn)の焦点に配置される複数の入射瞳(PEij)を備えた第1中間面(PI1)と、複数の出射瞳(PSij)を備えた第2中間面(PI2)と、複数の出射瞳(PSij)からのビームを集束できる集束レンズ(LC)と、複数の入射瞳(PEij)からの光ビームを複数の出射瞳(PSkl)へ個々に伝送する光学伝送手段とを有している。

Claim (excerpt)：

レーザービームを均質化する光学装置において、前記装置は、 -処理すべきレーザービームの伝搬方向に垂直にm列およびn行きに配置され、前記処理すべきレーザービームをm×n個のレーザービームに分割することができ、各レーザービームが実質的に一様な横断面および実質的に均質なエネルギー分布をもつ複数の隣接した前方レンズ(LFmn)と、 -前記レーザービームの伝搬方向において前記前方レンズ(LFmn)の下流に前記レーザービームの伝搬方向に垂直に配置され、選択した平面(CIB)において前記前方レンズからのビームを集束させて均質なビームを得るようにした少なくとも一つの集束レンズ(LC)とを有し、さらに、 -実質的に前記前方レンズ(LFmn)の焦面に位置し、各々前記複数の前方レンズ(LFmn)のなかから選択した一つの前方レンズ(LFmn)の焦点に実質的に配置した複数の入射瞳(PEij)を備えた第1中間面(PI1)と、 -複数の出射瞳(PSij)を備え、前記出射瞳(PSij)からのビームを前記集束レンズで集束できるようにした第2中間面(PI2)と、 -前記複数の入射瞳(PEij)からの光ビームを前記複数の出射瞳(PSij)に向かって個々に伝送するのに適した光学伝送手段とを有することを特徴とするレーザービームを均質化する光学装置。

IPC (5)：

G02B 27/09 , B23K 26/00 , G02B 3/00 , G02B 6/28 , G02B 15/00

FI (5)：

G02B 27/00 E , B23K 26/00 E , G02B 3/00 A , G02B 15/00 , G02B 6/28 Q

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平1-286478
照明方法および照明装置および投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-018676 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-034918

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