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J-GLOBAL ID：200903027768570923

アーク式イオンプレーティング装置

Inventor： 土居 陽 ,  平塚 治男
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995346478
Publication number (International publication number)：1997157837
Application date： Dec. 11, 1995
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 基材に対する膜の密着性を低下させることなく、基材の尖った部分でのエッチング現象を抑制することができ、かつアーク式蒸発源からのドロップレットが基材に飛来して堆積するのを防止することができる装置を提供する。【解決手段】 アーク式蒸発源14の陰極16の前面部とホルダ10上の基材8との間を遮るように、メッシュ状の中間電極24を配置すると共に、この中間電極24の電位を陰極16の電位と基材8の電位との中間電位に保つ中間電極電源26を設けた。更に、この中間電極24を真空容器2内において例えば上下方向に振動させる駆動装置28を設けた。

Claim (excerpt)：

真空容器と、この真空容器内に設けられていて被処理物である基材を保持するホルダと、前記真空容器に、その内部のホルダに保持される基材に向けて取り付けられていて、アーク放電によって陰極を溶解させると共に当該陰極の前面近傍にイオン化した陰極物質を含むアーク放電プラズマを生成するアーク式蒸発源と、前記ホルダに保持された基材に負のバイアス電圧を印加するバイアス電源とを備えるアーク式イオンプレーティング装置において、前記アーク式蒸発源の陰極の前面部とホルダに保持された基材との間を遮るように配置されたメッシュ状の中間電極と、この中間電極の電位を、前記アーク式蒸発源の陰極の電位と基材の電位との中間電位に保つ中間電極電源と、この中間電極を前記真空容器内において振動または回転させる駆動装置とを備えることを特徴とするアーク式イオンプレーティング装置。