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J-GLOBAL ID:200903027807942680

光走査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 千葉 剛宏 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000319807
Publication number (International publication number):2002131670
Application date: Oct. 19, 2000
Publication date: May. 09, 2002
Summary:
【要約】【課題】迷光による画像上の不具合の発生を確実に阻止し、簡単な構成で高品質な走査処理を行うことを可能にする。【解決手段】レーザ光照射機構42は、光源部50と、光ビーム走査部52と、光学定盤54とを備える。光ビーム走査部52は、ポリゴンミラー62を構成する下側フランジ部82および上側フランジ部84に反射防止処理として黒色処理が施されるとともに、第1および第2fθレンズ64、66を固定する板ばね88a、88b、90aおよび90bに黒色処理が施される。光学定盤54の壁部には、該壁部に対するレーザ光Lの照射直径以下のピッチPで連続した凹凸形状部位94が設けられる。
Claim (excerpt):
光ビームを出射する光源部と、前記光源部から出射される前記光ビームを偏向して被走査体に照射する光ビーム走査部と、少なくとも前記光ビーム走査部が装着される光学定盤と、を備え、前記光ビーム走査部は、光ビーム偏向用ミラーおよびレンズ系に近接する部材に反射防止処理が施されるとともに、前記光学定盤は、少なくとも前記光ビームが直接または光学部品で反射して照射される壁部に、該壁部に対する前記光ビームの照射直径以下のピッチで連続した凹凸形状部位を設けることを特徴とする光走査装置。
IPC (3):
G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113
FI (3):
G02B 26/10 F ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A
F-Term (14):
2C362DA26 ,  2C362DA29 ,  2H045AA03 ,  2H045AA07 ,  2H045AA33 ,  2H045CB63 ,  2H045DA04 ,  5C072AA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA11 ,  5C072HA01 ,  5C072HA13 ,  5C072HA20 ,  5C072VA01

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