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J-GLOBAL ID：200903027817504621

ナノ粒子の製造装置及びナノ粒子の製造方法

Inventor： 下川 勝義 ,  鈴木 正昭 ,  ピアテンコ アレクサンダー
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 平木 祐輔 ,  藤田 節 ,  石井 貞次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002377046
Publication number (International publication number)：2004202439
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】ナノ粒子の生産効率を低下させることなく、比較的に均一な粒径分布でナノ粒子を製造する。【解決手段】ナノ粒子材料を含むターゲット基板を取り付ける基板取付部と、上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板に対向して配設され、ターゲット基板に対してレーザーを照射するレーザー照射手段と、上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板における、上記レーザー照射手段からのレーザーが照射される表面に対して液体を供給する液体供給手段とを備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ナノ粒子材料を含むターゲット基板を取り付ける基板取付部と、 上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板に対向して配設され、ターゲット基板に対してレーザーを照射するレーザー照射手段と、 上記基板取付部に取り付けられたターゲット基板における、上記レーザー照射手段からのレーザーが照射される表面に対して液体を供給する液体供給手段と を備えるナノ粒子の製造装置。

IPC (2)：

B01J19/12 ,  B82B3/00

FI (3)：

B01J19/12 H ,  B01J19/12 B ,  B82B3/00

F-Term (24)：

4G075AA27 ,  4G075AA62 ,  4G075BC10 ,  4G075CA36 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB34 ,  4G075EC01 ,  4G075ED01 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC13 ,  4K017AA01 ,  4K017BA02 ,  4K017CA08 ,  4K017DA09 ,  4K017EB08 ,  4K017EF05 ,  4K017FA02 ,  4K017FA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-136606
  
• 特開昭50-064850
  
• 特開平4-063203