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J-GLOBAL ID：200903027843696571
全反射蛍光X線分析装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994023187
Publication number (International publication number)：1995209216
Application date： Jan. 24, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】同一試料について多くの元素を容易かつ迅速に分析することができる全反射蛍光X線分析装置を提供することを目的としている。【構成】格子面間隔の異なる複数の分光素子(人工多層膜格子)1A〜1Cを移動手段10によって移動させるだけで、X線源5と試料台7の位置を移動させることなく、一次X線B2の試料2への所定の入射角αを得ることができる。
Claim (excerpt)：
X線を発生するX線源と、上記X線を回折させて単色化した一次X線を試料表面に向かって微小な所定の入射角で入射させる分光器と、上記試料表面に対向し上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、このX線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析装置において、上記分光器は、格子面間隔の異なる複数の分光素子と、これら分光素子を移動させることにより所望の一次X線に対して上記所定の入射角を得る移動手段とを備えたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
Patent cited by the Patent：
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