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J-GLOBAL ID：200903027846244868
エツチング装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991328185
Publication number (International publication number)：1993140771
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 エッチング時の試料の温度を低くしかも試料の面内において一様に保つことができるようにしたエッチング装置を提供する。【構成】 セラミックス製のフォーカスリング24を昇降可能にすると共にその内径を試料10の外径よりも幾分小さくし、このフォーカスリング24を昇降装置32等を用いて昇降させると共に下降させたときに同フォーカスリング24の下部で試料10の周縁部を第1の電極6に押さえ付けるようにした。かつ、電極6とその上に試料10の周縁部を除外した部分との間に隙間34が形成されるようにし、この隙間34に、流量調節器44、真空ポンプ50等を用いて媒体ガス42を供給するようにした。
Claim (excerpt)：
エッチングガスが導入される真空容器と、この真空容器内に設けられた第1の電極であって平板状の試料を支持すると共に冷媒によって冷却されるものと、前記真空容器内にこの第1の電極と対向するように設けられた第2の電極と、前記第1の電極上の試料を取り囲むセラミックス製のフォーカスリングとを備えるエッチング装置において、前記フォーカスリングを昇降可能にすると共にその内径を試料の外径よりも幾分小さくし、このフォーカスリングを昇降させると共に下降させたときに同フォーカスリングの下部で試料の周縁部を第1の電極に押さえ付けるフォーカスリング昇降手段を設け、かつ前記第1の電極とその上の試料の周縁部を除外した部分との間に隙間が形成されるようにし、この隙間に、試料と第1の電極との間で熱を伝達する媒体ガスを供給する媒体ガス供給手段を設けたことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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