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J-GLOBAL ID：200903027865120908

ホログラフィを用いた露光方法及び装置

Inventor： 玄間 隆志 ,  後藤 明弘 ,  市原 裕 ,  馬込 伸貴 ,  白石 直正 ,  白数 廣 ,  松浦 敏男
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993202473
Publication number (International publication number)：1994244086
Application date： Jul. 26, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 xy方向の相対位置関係やギャップの検出が容易で、しかもホログラム変形にも対応できるアライメント方法を備えたホログラフィを用いた露光方法及び装置等を提供すること。【構成】 ホログラフィ露光方法において、アライメント用のホログラムを形成する手段と、ウエハ5aに設けられたウエハからの回折波E2をアライメント用のホログラムを介して検出する工程と、この検出結果に基づいてウエハとホログラムとの相対位置ずれを検知し又は補正するアライメント手段を有するもの。

Claim (excerpt)：

所望のパターンが形成されたマスクからの回折光を物体波とし、これと参照波とを干渉させてホログラム記録媒体にホログラムを記録した後、前記参照波と共役な再生波をホログラムに照射して前記マスクに代えて配置されたウエハ上にマスクパターンの像を再生させることにより、マスクのパターンをウエハに転写させるホログラフィを用いた露光方法において、前記マスクに形成された所定形状のアライメントマークからの回折光を物体波として前記ホログラム記録媒体にアライメント用のホログラムマークを記憶させる工程と、前記マスクパターン像の再生に先立って、前記物体波と同一波長の照明光を前記ウエハ面に設けられたウエハマークに照射することにより得られた回折光により前記ホログラムマークに照射すると共に、これによる前記ホログラムマークからの透過検出光を検出する工程と、該検出結果に基づいてホログラム記録媒体とウエハとの相対位置ずれ情報を検出し、この位置ずれ情報に基づいてこれらの相対位置関係を補正する工程と、を有することを特徴とするホログラフィを用いた露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G03H 1/22