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J-GLOBAL ID:200903027871562122

スピン・バルブ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 博 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001198254
Publication number (International publication number):2002124718
Application date: Jun. 29, 2001
Publication date: Apr. 26, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 結合磁界が小さくかつ安定しているスピン・バルブを提供する。【解決手段】 基板104上に第1の強磁性層105を堆積する。次いで、この第1の強磁性層105の第1の表面109を、酸素リッチの雰囲気にさらす。酸素は第1の表面109に物理吸着される。次いで、酸素分圧を急減させたのち、酸素処理した第1の表面109上に約2nm厚の銅から成るスペーサ層110を堆積する。スペーサ層110の第2の表面111を、酸素で処理する。次いで、酸素分圧を急減させたのち、酸素処理した第2の表面111上に第2の強磁性層112を堆積する。酸素の表面吸着によって、層と層とが相互に混合するのが抑制されるとともに、第1の表面109および第2の表面111の表面粗さが低減する。その結果、スピン・バルブの結合磁界が小さくなる。また、結合磁界は、ハードベーク・アニール時にほぼ安定している。さらに、磁気抵抗変化率も顕著に大きくなる。
Claim (excerpt):
(a)第1の表面を有する第1の強磁性層と、(b)第2の強磁性層と、(c)前記第1の強磁性層と前記第2の強磁性層との間に配置され、第2の表面を有するスペーサ層とを備え、前記第1の表面および前記第2の表面のうちの少なくとも一方が、対応する層を堆積したのちに酸素で処理されており、前記酸素処理は、引き続く層を堆積する前に止められているスピン・バルブ。
IPC (6):
H01L 43/08 ,  G01R 33/09 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/16 ,  H01F 10/32 ,  H01L 43/12
FI (6):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/16 ,  H01F 10/32 ,  H01L 43/12 ,  G01R 33/06 R
F-Term (9):
2G017AD55 ,  2G017AD63 ,  5D034BA02 ,  5D034BA03 ,  5D034CA06 ,  5D034DA07 ,  5E049AA04 ,  5E049BA16 ,  5E049DB12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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