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J-GLOBAL ID:200903027891688939

投影光学像のシミュレーション方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993197679
Publication number (International publication number):1995037769
Application date: Jul. 16, 1993
Publication date: Feb. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 大開口の投影光学系における結像分布の3次元ベクトル成分を、単純素朴な方法で計算できる投影光学像のシミュレーション方法を提供する。【構成】 マスク3および瞳面5を格子状に分割し、これに整合させて、マスク面から発生する光線、および瞳面上に投影される光源の回折像から発生する光線を追跡し、結像面上の電磁界および強度の和を計算する。
Claim (excerpt):
マスクパタンの投影光学系によるウエハ上の結像面への投影像をシミュレーションする方法であって、マスク面から発生する光線を結像面まで追跡するステップと、瞳面上に投影される光源の回折像から前記結像面への光線を追跡するステップとを有することを特徴とする投影光学像のシミュレーション方法。

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