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J-GLOBAL ID:200903027901089001

チタン高含有量のシリカライト触媒を用いるエポキシ化方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 秋沢 政光 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993123237
Publication number (International publication number):1994009592
Application date: Apr. 28, 1993
Publication date: Jan. 18, 1994
Summary:
【要約】【目的】オレフィンをエポキシ化してエポキシド官能基を含有する生成物を高収率で得る方法を提供する。【構成】比較的チタン含有量の高い結晶性チタン・シリカライト・ゼオライトの存在下オレフィンを過酸化水素でエポキシ化する。【効果】過酸化水素、またはオレフィンの非選択的損失を最小に維持して、エポキシドは高収率で得られる。
Claim (excerpt):
そのゼオライト格子枠組内のSi:Tiモル比が8:1〜23:1のチタン・シリカライト・ゼオライトの触媒的有効量の存在下、オレフィンをエポキシドに転換するのに有効な時間と温度下でオレフィンを過酸化水素源に接触させることから成るエポキシドの製造方法。
IPC (2):
C07D301/12 ,  C07D303/04

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