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J-GLOBAL ID：200903027933281664

ポジ型感光性組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002138809
Publication number (International publication number)：2003330172
Application date： May. 14, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板(SOG基板)上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物及びアルキルスルホニウム塩化合物、及び、(B)ノルボルナン構造とともにラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する、下記一般式(A2I)又は下記一般式(A2II)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種、及び、(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式(A2I)中:R1c〜R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。R6c及びR7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Rx及びRyは、各々独立に、アルキル基、2-オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリル基、又はビニル基を表す。R1c〜R7c中のいずれか2つ以上、及びRxとRyは、それぞれ結合して環構造を形成しても良く、この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。X-は、スルホン酸、カルボン酸、又はスルホニルイミドのアニオンを表す。一般式(A2II)中:R1d〜R3dは、各々独立に、アルキル基又は2-オキソアルキル基を表す。R1d〜R3dは、その内の2つが互いに結合して環構造を形成してもよい。X-は、アニオンを表す。【化2】一般式(I)中:R1〜R4は、各々独立に、水素原子、シアノ基、炭化水素基、又は-COOR5を表す。尚、R1〜R4のうち少なくとも2つが結合してラクトン環を形成する。R5は、水素原子又は炭化水素基を表す。mは、0又は1を表す。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  C08F 34/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A ,  C08F 34/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  4J100AR32P ,  4J100BA20P ,  4J100BA40P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38