Pat

J-GLOBAL ID：200903027939120689

縮小投影型X線リソグラフイ装置

Inventor： 持地 広造 ,  老泉 博昭 ,  森山 茂夫 ,  岡崎 信次 ,  寺澤 恒男 ,  伊東 昌昭
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991239244
Publication number (International publication number)：1993082417
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】縮小投影型X線リソグラフィにおいて、露光波長が40〜150Åと、従来の等倍近接露光の場合により長いため、装置を高真空中に保つ必要があった。これにより、ウェーハ交換の作業効率が下ること、および、レジスト分解物等による光学ミラーの汚染が問題であった。【構成】上記課題を解決するため、本発明ではX線リソグラフィ装置の光学系室とウェーハ露光室を分離する方法を提案した。これは図1および図2に示すように、差動排気部と薄膜窓より構成される分離機構の導入により達成される。【効果】大気圧中でのウェーハへの露光が可能となり、露光生産性の向上,露光精度の向上、および、光学素子寿命の向上が期待される。

Claim (excerpt)：

縮小投影を利用したX線露光において、X線マスクならびにX線を結像させるための光学素子を配置する空間とウェーハ試料を配置する空間を、差動排気機構および薄膜窓により分離することを特徴とする縮小投影型X線リソグラフィ装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521