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J-GLOBAL ID：200903027939933531
レチクル外観検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996112702
Publication number (International publication number)：1997297109
Application date： May. 07, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 ウェハ上に実際に転写された状態におけるレチクルパターンと設計データとの比較及びレチクルの良・不良の判定が可能なレチクル外観検査装置を提供すること。【解決手段】 本発明のレチクル外観検査装置は、検査対象であるレチクルのレチクルパターンからレチクル画像データ入力部1において得られたレチクルパターン画像データと、レチクルのパターン設計データからレチクル設計データ入力部3において得られたレチクル設計データとを基にして、ステッパの縮小光学系を通した場合に得られる光強度分布を夫々レチクルシミュレーション手段2及び設計データシミュレーション手段4においてシミュレーションし、得られた各々のシミュレーション結果を比較手段5において比較し、比較結果判定手段6において該比較結果に基づいて検査対象であるレチクルの良・不良を判定する。
Claim (excerpt)：
検査対象となるレチクルのレチクルパターンから該レチクルパターンの画像データであるレチクルパターン画像データを得るレチクル画像データ入力部と、該レチクル画像データ入力部において得られた前記レチクルパターン画像データに基づいて、前記レチクルパターンをステッパの縮小光学系に通した場合に得られる光強度分布をシミュレーションするレチクルシミュレーション手段と、前記レチクルのパターン設計データを処理して画像データであるレチクル設計データを得るレチクル設計データ入力部と、該レチクル設計データ入力部において得られた前記レチクル設計データに基づいて、前記レチクル設計データ通りに設計された場合に得られるレチクルのレチクルパターンをステッパの縮小光学系に通した場合に得られる光強度分布をシミュレーションする設計データシミュレーション手段と、該設計データシミュレーション手段の出力と前記レチクルシミュレーション手段の出力とを比較して、該設計データシミュレーション手段の出力と該レチクルシミュレーション手段の出力とが、一致している場合には一致信号を、不一致の場合には不一致信号を出力する比較手段とを備えることを特徴とするレチクル外観検査装置。
IPC (5)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, G06T 7/00
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G01N 21/88 E
, G01N 21/88 J
, G03F 1/08 S
, H01L 21/66 J
, G06F 15/62 400
, H01L 21/30 502 V
