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J-GLOBAL ID：200903027945974746
空間光変調素子およびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992125845
Publication number (International publication number)：1993323358
Application date： May. 19, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 配向欠陥を防止され、或は発生しても局所部に限られる、画素欠陥の少ない空間光変調素子を提供する。【構成】 少なくとも光導電層103と液晶層106、及びそれらの層間の同一平面内に微小形状に分割された金属反射膜104とで構成される空間光変調素子において、前記金属薄膜上の液晶層の膜厚を、前記金属薄膜間の液晶層の膜厚より薄くする。透明導電性電極を被覆した透明絶縁性基板に光導電層を成膜し、一様に金属反射膜を成膜し、フォトリソグラフィ-によって微小形状のパタ-ンを成形した後、この微小形状の金属反射膜をマスクとして光導電層をエッチングし段差を設ける。
Claim (excerpt)：
少なくとも光導電層と液晶層、及びそれらの層間の同一平面内に微小形状に分割された金属反射膜とで構成される空間光変調素子において、前記金属薄膜上の液晶層の膜厚と、前記金属薄膜間の液晶層の膜厚が異なることを特徴とする空間光変調素子。
IPC (2)：
G02F 1/135
, G02F 1/13 505
