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J-GLOBAL ID：200903027947380991

ポリシランを使用した多色パターン形成法

Inventor： 横山 正明 ,  津島 宏 ,  住吉 岩夫
Applicant, Patent owner： 日本ペイント株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993047782
Publication number (International publication number)：1994258516
Application date： Mar. 09, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】簡便かつ生産性に優れたカラーフィルターの製法を提供する。【構成】透明電極上にポリシラン層を形成、これを紫外線露光することにより着色パターン潜像を形成し、これを色素を含む電着液中で電着することにより着色パターンを具現化させる方法。

Claim (excerpt)：

a) 基板上に透明電極層を介して設けられた式【化1】(式中R1,R2、R3およびR4は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基および芳香族炭化水素残基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であり、mおよびnは整数である。)で示される構造のポリシランからなるポリシラン層を選択的に紫外線照射露光して着色パターンの潜像を形成する工程と、b) 着色パターンの潜像が形成された該ポリシラン層を、少なくとも1種類の染料もしくは顔料を含む電着可能な溶液中に浸漬し、電着することにより潜像部にパターン着色する工程:およびc) 該ポリシラン層に異なる着色パターンの潜像を形成すること、および異なる染料もしくは顔料を用いること以外は、該パターン着色工程と同様にして少なくとも1回行われる別のパターン着色工程;を包含するポリシラン層に多色着色パターンを形成する方法。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-366378
  
• 特公昭47-002949
  
• 特開昭64-007922
  
• 特開昭51-147066