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J-GLOBAL ID：200903027950527090

電磁的に結合された平面プラズマ装置内の酸化物をエッチングするための改良されたプロセス

Inventor： ケネス エス. コリンズ ,  ジェフリー マークス
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993301967
Publication number (International publication number)：1994283473
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 エッチングの選択性及び異方性を改善し、粒子の形成を減少させつつエッチング速度を改善することを目的とする。【構成】 壁面にアクセスポート14を有するチャンバ12と、アクセスポート14をシールする絶縁シールド18と、チャンバ12に供給されるプラズマ先行ガスのためのポート17と、処理される基板15をチャンバ12に対して出し入れするためのポートと、アクセスポート14にほぼ平行な基板支持部13と、チャンバ12の外で絶縁シールド18の近くに配置された電導体の平面コイル20と、高周波源30をコイル20に結合する手段とを備え、チャンバ12内で発生したプラズマの中または近傍にフッ素補集材26が設けられている。

Claim (excerpt)：

平面プラズマを生成する装置であって、チャンバと、該チャンバの一端に設けられている絶縁窓と、前記チャンバに供給されるプラズマ先行ガスのためのポートと、前記チャンバ内に設けられ前記アクセスポートに略平行な基板支持部と、前記チャンバの外で前記絶縁窓の近くに配置された電導体の平面コイルと、高周波源(radio frequency source)を前記コイルに結合する手段とを備え、前記チャンバ内で発生したプラズマの中または近傍にフッ素補集材(scavenger for fluorine)が設けられた装置。

IPC (3)：

H01L 21/302 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-229431
  
• 特開平4-334022
  
• 特開平3-276626
  
• 特開昭58-053833