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J-GLOBAL ID:200903027964251160
レーザ気化分析方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐々木 宗治 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997253101
Publication number (International publication number):1998148605
Application date: Sep. 18, 1997
Publication date: Jun. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】 試料の気化状況を考慮したレーザ照射を行うことにより分析精度を向上させる。【解決手段】 固体の母試料20の表面に不活性気流中でレーザ光を集光照射して、母試料20の一部を気化させ微粒子試料として採取しこの微粒子試料を分析器12に搬送して元素分析を行うレーザ気化分析方法において、パルス周波数が100Hz以上でパルス半値幅が1μsec以下のパルスレーザを用い、エネルギー密度が次式を満たすレーザ照射領域を2次元に隙間なく走査し、且つ、同一照射面を繰り返して照射して微粒子を生成させる。ここで、tはパルス半値幅、αは分析試料材料に固有な値であり、γはレーザ光吸収率である。Q>tl/2 ×α/γ (J/cm2 )
Claim (excerpt):
固体の母試料表面に不活性気流中でレーザ光を集光照射して、母試料の一部を気化させ微粒子試料として採取し、この微粒子試料を分析器に搬送して元素分析を行うレーザ気化分析方法において、パルス周波数が100Hz以上でパルス半値幅が1μsec以下のパルスレーザを用い、エネルギー密度が次の(1)式を満たすレーザ照射領域を2次元に隙間なく走査し、且つ、同一照射面を繰り返して照射して微粒子を生成させることを特徴とするレーザ気化分析方法。 Q>tl/2 ×α/γ (J/cm2 ) ...(1)ここで、tはパルス半値幅、αは分析試料材料の固有な値であり、γはレーザ光吸収率である。
IPC (3):
G01N 1/28
, G01N 21/73
, G01N 27/64
FI (3):
G01N 1/28 T
, G01N 21/73
, G01N 27/64 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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レーザー気化分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-159416
Applicant:日本鋼管株式会社
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鋼材表面の異常原因判定分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-309975
Applicant:日本鋼管株式会社
-
鋼片迅速分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-114982
Applicant:日本鋼管株式会社
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