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J-GLOBAL ID：200903027982076391

偏光解析装置及び位置ずれ補正方法

Inventor： 比内 修 ,  鎌田 雅史
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992322800
Publication number (International publication number)：1994147987
Application date： Nov. 05, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高精度の測定が可能な偏光解析装置を提供することにある。【構成】 光源1と試料Sとを結ぶ光路上には、それぞれ駆動部41、42によって回転制御されるλ/2板4、λ/4板5が配列され、試料Sでの反射方向の光路上にはビームスプリッタ6が設けられている。ビームスプリッタ6からの透過及び反射方向には、直交する2方向の振動成分のみを一方を透過し、他方を反射させる検光子7、8が設置されている。更に、検光子7、8の透過及び反射方向には光電検出器9〜12がそれぞれ配置されている。また、光電検出器9〜12には、それぞれの出力を増幅するためのプリアンプボード13が接続され、更にその出力から試料Sの偏光特性を計算する偏光特性計算部14が配置されている。

Claim (excerpt)：

或る方位角の直線偏光を生成する手段、2種類の位相板、及び少なくとも3つの偏光方向の光束を検出する装置から成る偏光解析装置において、前記直線偏光の方位角を回転する方法を有し、前記位相板の主軸を回転する手段と前記位相板を光路外に移動させる手段の少なくとも一方を有することを特徴とする偏光解析装置。

IPC (6)：

G01J 4/04 ,  G01B 11/06 ,  G01N 21/21 ,  G02B 27/28 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/207