Pat

J-GLOBAL ID：200903027992605791

向上された機械的強度を有するナノ多孔性炭素の製造方法及びそれによって製造されるナノ多孔性炭素

Inventor： ユ,ジョン スン ,  リー,ジン ギュ ,  チャン,セオク
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (5)： 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002365606
Publication number (International publication number)：2004161590
Application date： Dec. 17, 2002
Publication date： Jun. 10, 2004
Summary：

【課題】均一なサイズのメソ細孔と広い表面積を有するとともに機械的安定性にも優れたナノ多孔性炭素を簡単且つ経済的に合成するナノ多孔性炭素の製造方法及びそれによって製造されるナノ多孔性炭素を提供すること。【解決手段】焼成処理されていないメソ多孔性シリカ鋳型を合成し、前記合成されたメソ多孔性シリカ鋳型に、付加重合可能な単量体と開始剤との混合物又は縮合重合可能な単量体と酸触媒との混合物を注入し、前記注入された混合物を反応させて高分子-シリカ複合体を収得し、前記収得した高分子-シリカ複合体を高温熱処理して炭素-シリカ複合体を形成し、前記複合体からシリカ鋳型を溶媒で除去してナノ多孔性炭素を収得する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

(i)焼成(calcination)処理されていないメソ多孔性シリカ鋳型(template)を合成する段階と、 (ii)前記合成されたメソ多孔性シリカ鋳型に、付加重合可能な単量体と開始剤との混合物又は縮合重合可能な単量体と酸触媒との混合物を注入し、前記注入された混合物を反応させて高分子-シリカ複合体を収得する段階と、 (iii)前記収得した高分子-シリカ複合体を高温熱処理して炭素-シリカ複合体を形成し、前記複合体からシリカ鋳型を溶媒で除去してナノ多孔性炭素を収得する段階と、を含むナノ多孔性炭素の製造方法。

IPC (1)：

C01B31/02

FI (1)：

C01B31/02 101Z

F-Term (13)：

4G146AA01 ,  4G146AD11 ,  4G146BA13 ,  4G146BA16 ,  4G146BA17 ,  4G146BA41 ,  4G146BB04 ,  4G146BC03 ,  4G146BC46 ,  4G146CA11 ,  4G146CB13 ,  4G146CB28 ,  4G146CB35

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• メソ多孔体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-124690   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 吸湿性に優れた衣料用合成繊維布帛
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-150589   Applicant：東レ株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• Synthesis of Highly ordered carbon molecular sieves via template-mediated structural transformation
• Synthesis of mesoporous silicas of controlled pore wall thickness and their replication to ordered n
• Synthesis of highly ordered nanoporous carbon molecular sieves from silylated MCM-48 using divinylbe
• Synthesis of highly ordered nanoporous carbon molecular sieves from silylated MCM-48 using divinylbe