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J-GLOBAL ID：200903028001292746

空気洗浄方法および高純度シリコンフイルター

Inventor： 吉田 正道 ,  奥井 芳子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991217340
Publication number (International publication number)：1993057136
Application date： Aug. 28, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体装置の製造、より詳しくは、クリーンルームの空気の洗浄方法および空気洗浄用フィルターに関し、クリーンルームの空気中のHEPAないしULPAフィルターで除去できないガス状分子(不純物、P,Bなど)が製造過程にあるシリコンウエハー表面に付着し(吸着され)ないようにする。【構成】 半導体装置の製造過程で単結晶シリコン基板がクリーンルーム1の空気に晒される際に、該空気をHEPAないしULPAフィルター3に加えて高純度シリコンフィルター11を通過させた洗浄空気とする。追加して備えることになる高純度シリコンフィルターは、複数枚の鏡面仕上げ単結晶シリコンウエハー12を微小通風間隔でもって並べて構成されているかあるいは、複数個の単結晶シリコン劈開片18を通気孔のある石英箱17に詰めて構成されている。

Claim (excerpt)：

半導体装置の製造過程で単結晶シリコン基板がクリーンルーム(1)の空気に晒される際に、該空気をHEPAないしULPAフィルター(3)に加えて高純度シリコンフィルター(11)を通過させた洗浄空気とすることを特徴とする空気洗浄方法。

IPC (4)：

B01D 53/34 120 ,  B01D 53/04 ,  B01D 46/00 ,  H01L 21/02