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J-GLOBAL ID：200903028028695052

電子線描画装置

Inventor： 川野 源
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997246473
Publication number (International publication number)：1999086773
Application date： Sep. 11, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】現在、半導体材料であるウエハーは大型化する傾向があり、それに伴い、電子線描画装置内のステージなどのウエハーを移動させる機構系の面積も拡大化することが考えられる。【解決手段】ウエハーを360度回転可能な、試料台に配置させ、これを任意の一方向に移動させる。また、これに合わせ、カラム内の回転レンズを制御し、ウエハーを描画することで、試料台の移動量を極力小さくしかつステージを小型化する。

Claim (excerpt)：

電子線を発する手段および、該電子線形状を整形する手段および、その位置を決定する手段を備えられた試料(ウエハー)に微細加工を施す電子線描画装置において、該試料を配置,固定する機構が、任意の一方向に移動し、且つ回転する機構を具備したことを特徴とした電子線描画装置。

IPC (7)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/027

FI (7)：

H01J 37/305 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/20 A ,  H01L 21/30 541 L