磁気ディスクの作製方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：平木祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997218430
Publication number (International publication number)：1999066558
Application date： Aug. 13, 1997
Publication date： Mar. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】樹脂基板表面にスパッタ法によって磁気記録媒体を形成する場合に、装置内のスパッタのフレイク等の異物が基板表面に付着する現象を抑制し、安定した記録再生を行なえる高信頼性の磁気ディスク作製方法を提供する。【解決手段】真空中で樹脂基板11をベーキング中に、又は真空中で樹脂基板をベーキングしたのち真空を破ることなく連続して、樹脂基板上に導電性薄膜13を形成し、そののちスパッタ法により磁性膜16を形成する。導電性薄膜13は非化学量論組成の酸化物、非化学量論組成の窒化物、ネサガラス材のうちより選ばれた少なくとも1種類の化合物で構成する。

Claim (excerpt)：

少なくとも樹脂基板と磁性膜とを備える磁気ディスクの作製方法において、真空中で前記樹脂基板をベーキング中に、又は真空中で前記樹脂基板をベーキングしたのち真空を破ることなく連続して、前記樹脂基板上に導電性薄膜を形成し、そののちスパッタ法により前記磁性膜を形成することを特徴とする磁気ディスクの作製方法。

IPC (2)：

G11B 5/85 , G11B 5/66

FI (2)：

G11B 5/85 C , G11B 5/66

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開昭61-211832
磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-272480 Applicant：株式会社日立製作所
特開平1-226767

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Cited by examiner (6)

特開昭61-211832
磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-272480 Applicant：株式会社日立製作所
特開平1-226767

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