洗浄用化粧品組成物及びその使用

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998093610
Publication number (International publication number)：1998338899
Application date： Apr. 06, 1998
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】良好な洗浄力を保持すると同時に、優れた化粧品特性、特にもつれ解きやすさ、柔らかさ、処理した毛髪のしなやかさ及び量感を有する洗浄用組成物を提供する。【解決手段】化粧品に許容される媒体中に、(A)少なくとも1つの硫酸アルキルエーテル型のアニオン性界面活性剤と、少なくとも1つのC8-C20アルキルベタイン型の両性界面活性剤とを含んでなる洗浄ベース、及び、(B)少なくとも1つのアミノシリコーンと、特定のホモポリマーから選択される少なくとも1つのカチオン性ポリマーとを含んでなるコンディショニング系を含有する洗浄用組成物。

Claim (excerpt)：

化粧品に許容される媒体中に、(A)少なくとも1つの硫酸アルキルエーテル型のアニオン性界面活性剤と、少なくとも1つのC8-C20アルキルベタイン型の両性界面活性剤とを含んでなる洗浄ベース、及び、(B)少なくとも1つのアミノシリコーンと、下記式(I)及び/または(I’):【化1】(式中、k及びtは、0または1であって、k+tが1であり;R3は、水素原子またはメチル基を表し;R1及びR2は、互いに独立して、1から22の炭素原子を有するアルキル基、アルキル基が好ましくは1から5の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基、または低級(炭素原子1から5)アミドアルキル基を示し、あるいは、R1及びR2は、それに結合した窒素原子とともにピペリジルまたはモルホリニル等のヘテロ環を形成していてもよく;Y-は、臭化物、塩化物、酢酸、ホウ酸、クエン酸、酒石酸、重硫酸、重亜硫酸、硫酸またはリン酸のアニオンを表す)で表される単位を鎖の主成分として含むホモポリマーから選択される少なくとも1つのカチオン性ポリマーとを含んでなるコンディショニング系を含有することを特徴とする洗浄用組成物。

IPC (7)：

C11D 10/02 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11D 1/94 , C11D 1:29 , C11D 1:90 , C11D 3:37

FI (4)：

C11D 10/02 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11D 1/94

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

多価金属カチオンを含有したコンディショニングシャンプー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平7-503470 Applicant：ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
シャンプー組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-025017 Applicant：花王株式会社
頭皮・毛髪化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-021455 Applicant：花王株式会社

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