レジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998023499
Publication number (International publication number)：1999218927
Application date： Feb. 04, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、ストライエーション改良効果によって安定して優れたパターン形状を与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸発生剤、界面活性剤および前記酸発生剤により脱離する基として脂環式炭化水素基を有する構造単位を含むポリマーからなるレジスト組成物である。

Claim (excerpt)：

酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマー、酸発生剤および界面活性剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , G03F 7/20 502 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-261054 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-141606 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-112604 Applicant：富士通株式会社

Show all

Return to Previous Page