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J-GLOBAL ID：200903028145497806

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク

Inventor： 原口 崇 ,  松尾 正
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001023276
Publication number (International publication number)：2002229182
Application date： Jan. 31, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】露光光の短波長化や高透過率に対応でき、検査時のコントラストが得られるハーフトーン型位相シフトマスクブランクおよびハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。【解決手段】ガラス基板上に位相および透過率が制御された半透明膜層を備え、半透明膜層が、特定金属とシリコンを主要構成元素とする2層以上の多層膜で構成されているハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクに於いて、前記多層膜が透明性の高い膜(消衰係数の低い膜)と遮光性の高い膜(消衰係数の高い膜)を含み、前記遮光性の高い膜のシリコンに対する前記特定金属の含有比率が、前記透明性の高い膜の含有比率に比較して高いことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に位相および透過率が制御された半透明膜層を備え、半透明膜層が、特定金属とシリコンを主要構成元素とする2層以上の多層膜で構成されているハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクに於いて、前記多層膜が透明性の高い膜と遮光性の高い膜を含み、前記遮光性の高い膜のシリコンに対する前記特定金属の含有比率が、前記透明性の高い膜の含有比率に比較して高いことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 K ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (3)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11