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J-GLOBAL ID：200903028202025266

反応方法及び反応装置

Inventor： 梶野 勉 ,  高橋 治雄 ,  杉山 英彦 ,  浅見 修 ,  笹木 俊哉 ,  リ ボウ
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 北川 治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000330034
Publication number (International publication number)：2001190269
Application date： Oct. 30, 2000
Publication date： Jul. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 メディエータが関与する反応の、新規で工業的処理上有利な反応方法を提供する。【解決手段】 メディエータが酵素その他のメディエータ活性化手段により活性化されて活性メディエータとなり、基質に作用して所定の反応を遂行する反応方法において、前記活性メディエータを反応系外において別途調製し、基質を含む反応系へ投入する。好ましくは、上記活性メディエータを酵素を用いてマイルドな条件で調製し、高効率な厳しい条件下の反応系へ投入する。又好ましくは、任意のメディエータ活性化手段等を利用して更に高活性又は高安定性の高活性メディエータを調製し、これを上記反応系へ投入する。

Claim (excerpt)：

基質が存在する反応系に対して、活性化状態において前記基質に作用し所定の反応を遂行するメディエータを、前記活性化状態である活性メディエータとして投入することを特徴とする反応方法。

IPC (5)：

C12M 1/40 ,  B01J 19/00 311 ,  C12N 11/14 ,  C12Q 1/28 ,  C12S 3/08

FI (5)：

C12M 1/40 Z ,  B01J 19/00 311 Z ,  C12N 11/14 ,  C12Q 1/28 ,  C12S 3/08